金融界2025年4月23日音讯,国家知识产权局信息数据显现,朗姆研讨公司获得一项名为“用于极紫外光刻抗蚀剂改进的原子层蚀刻及选择性堆积处理”的专利,授权公告号CN 113785381 B,请求日期为2020年4月。
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